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在現代科研和精密制造領域,我們常常需要對材料表面進行其的清潔。普通的水洗、酒精擦洗甚至超聲波清洗,有時都無法滿足要求,特別是當處理的對象是微小的芯片、精密的醫療...
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等離子處理機是一種利用等離子體(電離氣體)對材料表面進行物理化學改性的技術設備,其核心原理是通過高頻電場或微波激發氣體形成等離子體,利用其中的高能粒子(如電子、離子、自由基)與材料表面發生反應,實現清潔、活化、改性或涂層沉積等功能。等離子體生成:通過高頻交流電場或微波激發氣體(如氬氣、氮氣、氧氣、壓縮空氣),使其電離形成由帶電粒子(電子、離子)和中性粒子(原子、分子、自由基)組成的等離子體。低溫等離子體(常壓或真空環境)是表面處理的主流,避免高溫損傷材料主體。物理濺射:高能粒...
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等離子清洗特點是不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料等都能很好地進行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機對陶瓷基板上銀氧化層的清洗實例。


等離子清洗機可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除,以及去除光學元件、半導體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機對PCB板和硅片的去膠實例。

改善粘合力-用于光學元件、生物醫學、封裝領域等;
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等,增強表面粘附性、浸潤性、相容性;
圖為PLUTO-M對線路板、橡膠管和手機膜的表面改性實例。

等離子刻蝕是干法刻蝕中常見的一種形式,其原理是暴露在電子區域的氣體形成等離子體,電離氣體原子通過電場加速時,會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。

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